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  • 真空干燥箱

    產品名稱:真空干燥箱(帶HMDS系統)

    產品品牌:HASUC

    產品型號:HMDS系統

    包裝單位:臺

    產品分類:真空烘箱(HMDS系統)

    產品介紹及技術參數

    帶預處理系統烘箱機外殼采用不銹鋼SUS304材質制造,內膽為不銹鋼316L材料制成;加熱器均勻分布在內膽外壁四周,內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內物體一目了然。

    一、產品研發背景
    在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。

    二、真空干燥箱產品技術參數

    產品型號: HMDS-6210
    電源電壓:AC 380V±10%/50Hz±2%
    輸入功率:4000W
    控溫范圍:室溫+10℃-250℃
    溫度分辨率:0.1℃
    溫度波動度:±0.5℃
    達到真空度:133Pa
    容積:210L
    工作室尺寸(mm):560*640*600
    外形尺寸(mm):720*820*1750
    載物托架:3塊
    時間單位:分鐘
    真空泵:國內好品牌,上!澳进櫋毙吞枺篋M-4,旋片式油泵。

    產品型號:HMDS-6090
    電源電壓:AC 380V±10%/50Hz±2%
    輸入功率:3000W
    控溫范圍:室溫+10℃-250℃
    溫度分辨率:0.1℃
    溫度波動度:±0.5℃
    達到真空度:133Pa
    容積:90L
    工作室尺寸(mm):450*450*450
    外形尺寸(mm):615*590*1470
    載物托架:2塊
    時間單位:分鐘
    真空泵:國內好品牌,上!澳进櫋毙吞枺篋M-4,旋片式油泵。
    真空烘箱

    三、HMDS 預處理系統的必要性

    在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。

    四、
    HMDS-6000系列預處理系統真空干燥箱的一般工作流程:

    先確定烘箱工作溫度。典型的預處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內真牢度達到某一高真空度后,開始充人氮氣,充到達到某低真空度后,冉次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設定的充入氮氣次數后,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達設定時間后,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業過程。HMDS與硅片反應機理如圖:先加熱到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應,在硅片表而生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進一步反應。

    五、產品證書
    干燥箱質量證書  干燥箱CE證書 

    六、工廠圖片
    干燥箱工廠圖片

     

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